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    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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    上海巖征生產(chǎn)的CO2光催化反應(yīng)裝置光化學(xué)高壓反應(yīng)釜,使用溫度300℃內(nèi),使用壓力:10mpa,適用于光化學(xué)高壓反應(yīng)、二氧化碳(CO2)還原、二氧化碳(CO2)還原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)還原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的還原降解、甲醛的高壓光催化降解等領(lǐng)域

    更新時間:2024-05-23

    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家

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